Título

DEPOSIÇÕES REATIVAS POR TRIODO-MAGNETRON- SPUTTERING (TMS): EFEITOS DA MALHA DA TELA NO PROCESSO DE ENVENENAMENTO DO ALVO NA OBTENÇÃO DE FILMES DE TIN

REACTIVE DEPOSITION BY TRIODO-MAGNETRON- SPUTTERING: EFFECT OF THE SCREEN NET ON THE POISONING OF TARGET IN THE DEPOSITION PROCESS FOR TIN FILMS.

Autoria

Recco, Abel André Cândido; Tschiptschin, André Paulo; Fontana, Luís César

DOI

10.5151/2594-5327-0342

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Resumo

O triodo magnetron sputtering (TMS) é um sistema de deposição de filmes finos, caracterizado pela presença de uma tela posicionada em frente ao magnetron. Neste trabalho realizou-se uma investigação experimental do efeito da malha da tela no processo de deposição de filmes de TiN. Para isso, determinou-se as curvas de histerese para três diferentes malhas de tela (18, 10, 5) com dois diferentes valores de pressões de argônio (2,0 e 3,0 mTorr). Por meio deste estudo pode-se observar que utilizando-se telas mais “finas” (malha 18) amplia-se a faixa de operação do fluxo do gás reativo (N2) tornando mais fácil controlar o processo de deposição reativa para a obtenção de filmes TiN via TMS. Outra observação possível de ser feita por meio deste estudo é a de que a razão de deposição é fortemente afetada pela malha da tela e também pela proporção de gás reativo no interior da câmara de descarga.

 

The characteristic of the sputtering magnetron triode (SMT) is the presence of a screen placed in front of the magnetron. Experimental investigation of the effect of the screen net on the deposition process for TiN films is studied. The hysteresis curves were determined for three different screen nets (18, 10, and 5) and for two different argon pressures (2.0 end 3.0 mTorr). The finest nets were applied (net 18), which was enlarged to the reactive gas-operating zone (N2) making it easier to control the reactive deposition film process for the obtaining TiN via SMT. The rate of deposition is strongly affected by the screen net and also by the gas reactive proportion inside the discharge chamber. The "screen net" parameter changes the preferential orientation of the TiN films.

Palavras-chave

Triodo Magnetron Sputtering; Malha da tela; Deposições reativas de TiN; Razão de deposição.

Sputtering Magnetron Triode; Screen net; Rate deposition, TiN reactive deposition.