Anais do Congresso Anual da ABM


ISSN 2594-5327

71th ABM Annual Congress vol. 71, num.71 (2016)


Título

NANOFILME ANTIRREFLEXIVO DE SÍLICA CONFECCIONADO PELO PROCESSO SOL-GEL PARA APLICAÇÃO SOLAR

ANTIREFLECTIVE SILICA NANOFILMS PRODUCED BY THE SOL-GEL PROCESS FOR SOLAR APPLICATION

DOI

10.5151/1516-392X-27715

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Resumo

Este trabalho trata da deposição de um nanofilme de sílica através do processo sol-gel na superfície de um substrato vítreo para sua aplicação em usinas térmicas de energia solar. Os filmes foram confeccionados pelo processo de revestimento por imersão utilizando-se um equipamento dip-coating e passaram por um tratamento térmico à 425°C durante 30 minutos. Na etapa de caracterização foram feitos ensaios de espectroscopia de fluorescência de raios-X, refletância difusa no UV-Vis, microscopia eletrônica de varredura e medidas de molhabilidade. As propriedades mecânicas foram avaliadas por teste de adesão da fita e dureza a lápis. Resultados dos ensaios de espectroscopia de fluorescência de raios-X confirmaram haver a deposição de sílica sobre o substrato. Foi obtida uma refletância difusa de 2,72% para o filme antirreflexivo. Imagens no MEV revelaram uma superfície lisa, uniforme e isenta de trincas. Medidas de molhabilidade mostraram que houve o molhamento dos filmes pela água, caracterizando-os como hidrofílicos. Os filmes apresentaram uma adesão de 4B e dureza de 3H. Os nanofilmes de sílica confeccionados apresentaram propriedades ópticas e mecânicas satisfatórias para a aplicação solar.

 

This paper deals with the deposition of silica nanofilms by the sol-gel process in a glass substrate for its application in solar power plants. The films were prepared by dip-coating process and heat-treated at 425°C for 30 minutes. The characterization was performed by X-ray fluorescence spectroscopy, scanning electron microscopy and wettability measurements. Mechanical properties were evaluated by adhesion tape test and pencil hardness. X-ray fluorescence spectroscopy has confirmed the silica deposition on the substrate. A diffuse reflectance of 2.72% was obtained to the antireflective films. Images in SEM revealed a smooth surface, free from cracks. The wettability measurements showed that, for all films, there was wetting of the film by water, characterizing them as hydrophilic. The films’ adhesion was 4B and its hardness was 3H. The silica nanofilms showed good optical and mechanical properties for its application in solar area.

Palavras-chave

Nanofilme de sílica, Revestimento antirreflexivo, Processo sol-gel, Energia solar

Silica nanofilm, Antireflective coating, Sol-gel process, Solar energy

Como citar

Silva, Débora Guimarães da; Costa, Vilma Conceição; Nunes, Rogério Antônio Xavier. NANOFILME ANTIRREFLEXIVO DE SÍLICA CONFECCIONADO PELO PROCESSO SOL-GEL PARA APLICAÇÃO SOLAR , p. 575-584. In: 71th ABM Annual Congress, Rio de Janeiro, 2016.
ISSN: 2594-5327 , DOI 10.5151/1516-392X-27715