Título

DEPOSIÇÃO A PLASMA DE FILME A BASE DE ÓXIDO DE SILÍCIO EM AÇO ABNT 1010

PLASMA DEPOSITION OF A SILICON OXIDE LAYER ON STEEL ABNT 1010

Autoria

Bernardelli, Euclides Alexandre; Toledo, Felipe; Binder, Cristiano; Klein, Aloísio Nelmo; Maliska, Ana Maria

DOI

10.5151/2594-5327-23667

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Resumo

Neste trabalho foi realizada a deposição a plasma de um filme a base de óxido de silício em aço ABNT 1010. A deposição foi realizada em um reator de plasma com fonte DC pulsada na configuração cátodo-ânodo, sendo as amostras posicionadas no cátodo. O silício foi obtido a partir de um precursor líquido denominado hexametildissiloxano (C6H18OSi2), sendo este injetado dentro do reator na forma de vapor. A variável estudada foi a mistura de gases utilizadas para realizar a deposição, sendo utilizada uma atmosfera rica em oxigênio e uma atmosfera rica em hidrogênio. Foram realizadas caracterizações por microscopia ótica (MO), microscopia eletrônica de varredura (MEV) e por desplacamento. Os resultados mostram que o hidrogênio torna o filme menos quebradiço e mais aderido ao substrato.

 

This work was performed by plasma deposition of a silicon oxide on steel ABNT 1010. The deposition was realized at a plasma reactor with DC pulsed source cathode-anode configuration, and the samples placed on the cathode. The silicon oxide was obtained from a liquid precursor called hexamethyldisiloxane (C6H18OSi2), which is injected into the reactor in vapor form. The variable studied was the mixture of gases used to conduct the deposition, and used an oxygen-rich atmosphere and an atmosphere rich in hydrogen. Characterizations were performed by optical microscopy (OM), scanning electron microscopy (SEM) and peeling. The results show that hydrogen makes the film less brittle and more adhered to the substrate.

Palavras-chave

Deposição a plasma; Hexametildissiloxano; ABNT 1010.

Plasma deposition; Hexamethyldissiloxane; ABNT 1010.