ISSN 2594-5327
46º Congresso anual — Vol. 46, Num. 1 (1991)
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Resumo
A simulação por computador de processos difusionais pode ser de grande utilidade na área de tratamentos térmicos e em uma série de aplicações tecnológicas em que o processamento ou o emprego do material ocorre em temperaturas elevadas. A durabilidade de alguns componentes na indústria microeletrônica ou a resistência à oxidação de um material em altas temperaturas são exemplos de situações em que o comportamento pode ser estimado por meio de simulação, caso sejam conhecidos os coeficientes de difusão das espécies envolvidas. O presente trabalho focaliza exemplos de aplicações em sistemas binários e ternários de um programa desenvolvido para o cálculo de perfis de concentração.
Palavras-chave
difusão atômica, simulação computacional, perfis de concentração, equação de Fick, efeito Kirkendall
Como citar
Craievich, Pablo J.; Assunção, Fernando C. Rizzo.
CÁLCULO COMPUTACIONAL DE PERFIS DE CONCENTRAÇÃO EM PROCESSOS DIFUSIONAIS,
p. 1307-1322.
In: 46º Congresso anual,
São Paulo, Brasil,
1991.
ISSN: 2594-5327, DOI 10.5151/2594-5327-1991-46-v3-39-54
