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Congresso Anual da ABM


ISSN 2594-5327

56º Congresso anual Vol. 56 , num. 1 (2001)


Título

CARACTERIZAÇÃO E AVALIAÇÃO DA ADESÃO DE FILMES DE TiN VIA PVD

CARACTERIZAÇÃO E AVALIAÇÃO DA ADESÃO DE FILMES DE TiN VIA PVD

Autoria

DOI

10.5151/2594-5327-C01099

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Resumo

A performance em serviço de peças revestidas está diretamente ligada às propriedades do material do filme, do substrato e à adesão entre as duas partes. No caso da deposição do TiN em aços, onde normalmente o maior interesse é a melhoria das propriedades tribológicas, a adesão do filme é de extrema importância. Neste trabalho foram produzidos filmes de TiN em diferentes substratos (aços AISI 4140 e M2) com diferentes condições de tratamento térmico, visando avaliar o efeito da dureza e da composição química dos substratos. Também foram alteradas as condições de deposição, através do bias voltage e da espessura da camada intermediária de titânio. Foi utilizado o processo de evaporação por feixe de elétrons em atmosfera reativa de nitrogênio para produção dos revestimentos. As camadas foram analisadas através de técnicas de microdureza, difração de raios-X, microscopia eletrônica de varredura (MEV) e GDS. A avaliação da adesão foi realizada por técnicas de indentação e de resistência ao risco. Os resultados obtidos apresentaram significativas mudanças no comportamento dos filmes frente as diferentes condições de deposição.

 

A performance em serviço de peças revestidas está diretamente ligada às propriedades do material do filme, do substrato e à adesão entre as duas partes. No caso da deposição do TiN em aços, onde normalmente o maior interesse é a melhoria das propriedades tribológicas, a adesão do filme é de extrema importância. Neste trabalho foram produzidos filmes de TiN em diferentes substratos (aços AISI 4140 e M2) com diferentes condições de tratamento térmico, visando avaliar o efeito da dureza e da composição química dos substratos. Também foram alteradas as condições de deposição, através do bias voltage e da espessura da camada intermediária de titânio. Foi utilizado o processo de evaporação por feixe de elétrons em atmosfera reativa de nitrogênio para produção dos revestimentos. As camadas foram analisadas através de técnicas de microdureza, difração de raios-X, microscopia eletrônica de varredura (MEV) e GDS. A avaliação da adesão foi realizada por técnicas de indentação e de resistência ao risco. Os resultados obtidos apresentaram significativas mudanças no comportamento dos filmes frente as diferentes condições de deposição.

Palavras-chave

PVD, nitreto de titânio, adesão.

PVD, nitreto de titânio, adesão.

Como citar

Piana, Luciano André; Strohaecker, Telmo Roberto; Neto, Augusto Oscar Kunrath. CARACTERIZAÇÃO E AVALIAÇÃO DA ADESÃO DE FILMES DE TiN VIA PVD, p. 244-253. In: 56º Congresso anual, Belo Horizonte, Brasil, 2001.
ISSN: 2594-5327, DOI 10.5151/2594-5327-C01099