ISSN 2594-5327
55º Congresso anual — Vol. 55 , num. 1 (2000)
Título
Autoria
DOI
Downloads
Resumo
Filmes multicamadas de LiF, NaF e LiF:NaF foram crescidos pelo método de evaporação por feixe de elétrons. Todos os filmes foram depositados com uma taxa de cerca de 1 nm/s em substratos de alumínio, aço inoxidável e vidro. Os substratos foram mantidos a temperaturas entre 30 e 350 °C. Posteriormente, os filmes foram tratados termicamente e irradiados em um irradiador de ⁶⁰Co, com doses entre 0,05 e 100 Gy para testar a possibilidade de seu uso para dosimetria. Suas características estruturais e morfológicas foram estudadas por difração de raios X e microscopia eletrônica de varredura. As propriedades dosimétricas destes filmes foram medidas por suas curvas de emissão termoluminescente (TL). A adição de camadas de NaF aos filmes de LiF modifica as tensões internas no filme, modificando sua resposta TL, mas não a sua estrutura de picos de emissão. Curvas dosimétricas foram construídas para dois destes picos. Ainda não foi possível estabelecer uma correlação entre a curva de emissão TL dos filmes de LiF:NaF e as contribuições devidas às camadas de LiF e NaF, individualmente.
Filmes multicamadas de LiF, NaF e LiF:NaF foram crescidos pelo método de evaporação por feixe de elétrons. Todos os filmes foram depositados com uma taxa de cerca de 1 nm/s em substratos de alumínio, aço inoxidável e vidro. Os substratos foram mantidos a temperaturas entre 30 e 350 °C. Posteriormente, os filmes foram tratados termicamente e irradiados em um irradiador de ⁶⁰Co, com doses entre 0,05 e 100 Gy para testar a possibilidade de seu uso para dosimetria. Suas características estruturais e morfológicas foram estudadas por difração de raios X e microscopia eletrônica de varredura. As propriedades dosimétricas destes filmes foram medidas por suas curvas de emissão termoluminescente (TL). A adição de camadas de NaF aos filmes de LiF modifica as tensões internas no filme, modificando sua resposta TL, mas não a sua estrutura de picos de emissão. Curvas dosimétricas foram construídas para dois destes picos. Ainda não foi possível estabelecer uma correlação entre a curva de emissão TL dos filmes de LiF:NaF e as contribuições devidas às camadas de LiF e NaF, individualmente.
Palavras-chave
LiF:NaF, filme, termoluminescência
LiF:NaF, filme, termoluminescência
Como citar
Maurício, Cláudia Lúcia de Pinho; Maurício, Marcos Henrique de Pinho; Nunes, Raul Almeida.
Estudo Dosimétrico de Filmes de LiF:NaF,
p. 1733-1741.
In: 55º Congresso anual,
Rio de Janeiro, Brasil,
2000.
ISSN: 2594-5327, DOI 10.5151/2594-5327-C00916
