ISSN 2594-5327
59º Congresso anual — Vol. 59 , num. 1 (2004)
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Resumo
Neste trabalho, filmes de oxinitreto de silício com espessura entre 0.2 µm a 1.4 µm foram depositados sobre amostras de policarbonato e silício através da técnica de deposição Inductive Coupled Plasma Chemical Vapour Deposition (ICP-CVD). Para a deposição utilizou-se como gases de processo a silana e óxido nitroso, na temperatura ambiente, pressão de 50 mTorr e potência de RF de 50 W e 100 W. Nossos resultados mostram que a transmitância ótica não foi mudada significativamente com o aumento da espessura de oxinitreto de silício. No entanto, observa-se que os filmes racham com o aumento da espessura, indicando aumento da tensão mecânica no filme. Através dos testes de risco utilizando-se forças entre 0,2 e 2,5 N e medindo-se as respectivas profundidades, observa-se que os filmes de oxinitreto de silício diminuíram em aproximadamente 70% a profundidade dos riscos quando comparadas com policarbonato sem proteção. Ambos resultados, transmitância ótica e aumento de dureza promovido pelo filme de oxinitreto de silício, tornam viável a sua utilização como camada de proteção para materiais de baixa dureza.
Neste trabalho, filmes de oxinitreto de silício com espessura entre 0.2 µm a 1.4 µm foram depositados sobre amostras de policarbonato e silício através da técnica de deposição Inductive Coupled Plasma Chemical Vapour Deposition (ICP-CVD). Para a deposição utilizou-se como gases de processo a silana e óxido nitroso, na temperatura ambiente, pressão de 50 mTorr e potência de RF de 50 W e 100 W. Nossos resultados mostram que a transmitância ótica não foi mudada significativamente com o aumento da espessura de oxinitreto de silício. No entanto, observa-se que os filmes racham com o aumento da espessura, indicando aumento da tensão mecânica no filme. Através dos testes de risco utilizando-se forças entre 0,2 e 2,5 N e medindo-se as respectivas profundidades, observa-se que os filmes de oxinitreto de silício diminuíram em aproximadamente 70% a profundidade dos riscos quando comparadas com policarbonato sem proteção. Ambos resultados, transmitância ótica e aumento de dureza promovido pelo filme de oxinitreto de silício, tornam viável a sua utilização como camada de proteção para materiais de baixa dureza.
Palavras-chave
plasma, deposição química a vapor, filmes finos
plasma, deposição química a vapor, filmes finos
Como citar
Zambom, Luís da Silva; Mansano, Ronaldo Domingues; Mousinho, Ana Paula; Ruas, Ronaldo; Neto, Luiz Gonçalves.
FILME FINO DE OXINITRETO DE SILÍCIO UTILIZADO COMO CAMADA PROTETORA ANTI-RISCO PARA POLICARBONATO,
p. 1261-1269.
In: 59º Congresso anual,
São Paulo, Brasil,
2004.
ISSN: 2594-5327, DOI 10.5151/2594-5327-3792
