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Congresso Anual da ABM


ISSN 2594-5327

54º Congresso anual Vol. 54 , num. 1 (1999)


Título

OXIDAÇÃO ANÓDICA DE ELETRODOS DE Nb-Ta-Al

OXIDAÇÃO ANÓDICA DE ELETRODOS DE Nb-Ta-Al

Autoria

DOI

10.5151/2594-5327-C00605

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Resumo

Ligas do sistema Nb-Ta-Al têm despertado alto interesse científico e tecnológico devido sua aplicação potencial em capacitores eletrolíticos de alta carga específica e alto desempenho. No presente trabalho três eletrodos de ligas aluminotérmicas do sistema Nb-Ta-Al, foram anodizados numa solução eletrolítica de H₃PO₄ –1%, sob condições galvanostática de 10 mA/cm², até voltagem final de anodização de 100 V. A técnica de elipsometria foi utilizada para determinar as espessuras dos filmes óxidos anódicos. Uma relação linear entre a espessura dos filmes e a voltagem de anodização foi sempre observada, cujas taxas de crescimento foi de 16,4 Å/V até 23,5 Å/V. A caracterização elétrica destes filmes foi feita por meio de medidas de capacitância, fator de dissipação e resistência em série equivalente.

 

Ligas do sistema Nb-Ta-Al têm despertado alto interesse científico e tecnológico devido sua aplicação potencial em capacitores eletrolíticos de alta carga específica e alto desempenho. No presente trabalho três eletrodos de ligas aluminotérmicas do sistema Nb-Ta-Al, foram anodizados numa solução eletrolítica de H₃PO₄ –1%, sob condições galvanostática de 10 mA/cm², até voltagem final de anodização de 100 V. A técnica de elipsometria foi utilizada para determinar as espessuras dos filmes óxidos anódicos. Uma relação linear entre a espessura dos filmes e a voltagem de anodização foi sempre observada, cujas taxas de crescimento foi de 16,4 Å/V até 23,5 Å/V. A caracterização elétrica destes filmes foi feita por meio de medidas de capacitância, fator de dissipação e resistência em série equivalente.

Palavras-chave

anodização – capacitores – ligas de Nb-Ta-Al

anodização – capacitores – ligas de Nb-Ta-Al

Como citar

Nilson, França de Holanda, José. OXIDAÇÃO ANÓDICA DE ELETRODOS DE Nb-Ta-Al, p. 788-793. In: 54º Congresso anual, São Paulo, Brasil, 1999.
ISSN: 2594-5327, DOI 10.5151/2594-5327-C00605