ISSN 2594-5327
48º Congresso anual — Vol. 48, Num. 1 (1993)
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Resumo
Filmes duros de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) apresentam propriedades altamente interessantes para um grande número de aplicações tecnológicas, como por exemplo: altas dureza e resistência ao desgaste para aplicações mecânicas, elevada inércia química e condutividade térmica para revestimentos protetores e dissipadores de calor, índice de refração adequado para recobrimentos Óticos e possibilidade de dopagem para aplicação em dispositivos eletrônicos. Entretanto para que estas aplicações sejam viáveis, fatores como baixa taxa de deposição, alta tensão interna residual e aderência ruim a certos substratos. ainda se constituem em empecilhos. Neste trabalho produzimos filmes de a-C:H com silício incorporado e discutimos os efeitos desta incorporação sobre as propriedades do material. 0s resultados obtidos mostram que os filmes com silício incorporado apresentaram uma taxa de deposição cerca de até três vezes superior aos filmes de a-C:H puro. Obteve-se também uma redução de cerca de um fator três na tensão interna com o aumento da concentração de silício, enquanto a dureza é pouco afetada. Concomitantemente. obteve-se filmes bastante aderentes aos substratos de vidro. Medidas de condutividade em função da temperatura mostram que a incorporação de silício permite controlar a condutividade do material em larga faixa, e indicam um aumento na densidade de defeitos do material.
Palavras-chave
Filmes de carbono, Silício, a-C:H, Condutividade, Dureza.
Como citar
Neto, A. L. Baia; Jr., S. S. Camargo.
PRODUÇAO E CARACTERIZAÇÃO DE FILMES DUROS DE CARBONO INCORPORADOS COM SILICIO.,
p. 789-808.
In: 48º Congresso anual,
Rio de Janeiro, Brasil,
1993.
ISSN: 2594-5327, DOI 10.5151/2594-5327-48v2-17-36
