ISSN 2594-5327
59th Congresso anual — Vol. 59 , num. 1 (2004)
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Abstract
O processamento de ímãs SmCo₅ e Sm(CoCuFeZr)z inclui um tratamento térmico, o qual é responsável por significativo aumento do campo coercivo. É apresentada uma metodologia para modelamento do efeito do tratamento térmico sobre o campo coercivo, baseado-se na hipótese que o efeito é consequência da eliminação de defeitos de reticulado de equilíbrio, como lacunas ou átomos substitucionais. A "distância média de difusão" é calculada conforme as Leis de Fick, supondo-se que a etapa mais lenta do processo é a difusão de átomos de terra-rara pelo reticulado. A "distância média de difusão" pode ser comparada com aspectos microestruturais, e a evolução da "distância média de difusão" com o tempo de tratamento térmico pode ser comparada com a evolução do campo coercivo em função do tempo. Os resultados mostram que, no caso do SmCo₅, o tempo de tratamento térmico é ~20 vezes menor se, em vez de um tratamento isotérmico a 850°C, um resfriamento lento a partir de 1150°C é empregado. A "distância média de difusão" encontrada para um tratamento térmico típico em ímãs SmCo₅ é ~100 microns, uma ordem de grandeza maior que o tamanho médio de grão (~10 microns) desses ímãs. Para um tratamento térmico típico de ímãs Sm(CoCuFeZr)z foi encontrada distância média de difusão de 1 micron, a qual é também uma ordem de grandeza maior que o tamanho médio de cristais nesses ímãs, que é de ~0,15 microns.
O processamento de ímãs SmCo₅ e Sm(CoCuFeZr)z inclui um tratamento térmico, o qual é responsável por significativo aumento do campo coercivo. É apresentada uma metodologia para modelamento do efeito do tratamento térmico sobre o campo coercivo, baseado-se na hipótese que o efeito é consequência da eliminação de defeitos de reticulado de equilíbrio, como lacunas ou átomos substitucionais. A "distância média de difusão" é calculada conforme as Leis de Fick, supondo-se que a etapa mais lenta do processo é a difusão de átomos de terra-rara pelo reticulado. A "distância média de difusão" pode ser comparada com aspectos microestruturais, e a evolução da "distância média de difusão" com o tempo de tratamento térmico pode ser comparada com a evolução do campo coercivo em função do tempo. Os resultados mostram que, no caso do SmCo₅, o tempo de tratamento térmico é ~20 vezes menor se, em vez de um tratamento isotérmico a 850°C, um resfriamento lento a partir de 1150°C é empregado. A "distância média de difusão" encontrada para um tratamento térmico típico em ímãs SmCo₅ é ~100 microns, uma ordem de grandeza maior que o tamanho médio de grão (~10 microns) desses ímãs. Para um tratamento térmico típico de ímãs Sm(CoCuFeZr)z foi encontrada distância média de difusão de 1 micron, a qual é também uma ordem de grandeza maior que o tamanho médio de cristais nesses ímãs, que é de ~0,15 microns.
Keywords
ímãs permanentes, tratamentos térmicos, SmCo₅, SmCoFeCuZr
ímãs permanentes, tratamentos térmicos, SmCo₅, SmCoFeCuZr
How to cite
Campos, Marcos Flávio de; Rios, Paulo Rangel.
ANÁLISE DA CINÉTICA DO TRATAMENTO TÉRMICO EM ÍMÃS SmCo₅ E Sm(CoCuFeZr),
p. 3985-3993.
In: 59th Congresso anual,
São Paulo, Brasil,
2004.
ISSN: 2594-5327, DOI 10.5151/2594-5327-4296