ISSN 2594-5327
58th Congresso anual — Vol. 58 , num. 1 (2003)
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Abstract
O objetivo do presente trabalho é mostrar o uso de diagramas de potenciais termodinâmicos para avaliar as condições de deposição de filmes de Telureto de Cádmio a partir de duas fontes de materiais, Cd e Te. Em especial, o método proposto permite avaliar a influência de contaminantes gasosos, tais como, por exemplo, oxigênio e vapor de água, sobre as fases condensadas. O método pode ser aplicado para a deposição de outros compostos estequiométricos que também sejam mais estáveis que os elementos que os compõem.
O objetivo do presente trabalho é mostrar o uso de diagramas de potenciais termodinâmicos para avaliar as condições de deposição de filmes de Telureto de Cádmio a partir de duas fontes de materiais, Cd e Te. Em especial, o método proposto permite avaliar a influência de contaminantes gasosos, tais como, por exemplo, oxigênio e vapor de água, sobre as fases condensadas. O método pode ser aplicado para a deposição de outros compostos estequiométricos que também sejam mais estáveis que os elementos que os compõem.
Keywords
potenciais termodinâmicos, deposição de filmes finos, telureto de cádmio
potenciais termodinâmicos, deposição de filmes finos, telureto de cádmio
How to cite
Ribeiro, Mônica Cristina Riccio; Cruz, Leila Rosa de Oliveira; Avillez, Roberto Ribeiro de.
Avaliação termodinâmica das condições de deposição de filmes de CdTe através da técnica de evaporação em espaço fechado,
p. 2859-2867.
In: 58th Congresso anual,
Rio de Janeiro, Brasil,
2003.
ISSN: 2594-5327, DOI 10.5151/2594-5327-3016