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CARACTERIZAÇÃO E AVALIAÇÃO DA ADESÃO DE FILMES DE TiN VIA PVD

CARACTERIZAÇÃO E AVALIAÇÃO DA ADESÃO DE FILMES DE TiN VIA PVD

Authorship

PIANA, LUCIANO ANDRÉ; STROHAECKER, TELMO ROBERTO; NETO, AUGUSTO OSCAR KUNRATH

PIANA, LUCIANO ANDRÉ

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STROHAECKER, TELMO ROBERTO

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NETO, AUGUSTO OSCAR KUNRATH

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DOI

10.5151/2594-5327-C01099

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Abstract

A performance em serviço de peças revestidas está diretamente ligada às propriedades do material do filme, do substrato e à adesão entre as duas partes. No caso da deposição do TiN em aços, onde normalmente o maior interesse é a melhoria das propriedades tribológicas, a adesão do filme é de extrema importância. Neste trabalho foram produzidos filmes de TiN em diferentes substratos (aços AISI 4140 e M2) com diferentes condições de tratamento térmico, visando avaliar o efeito da dureza e da composição química dos substratos. Também foram alteradas as condições de deposição, através do bias voltage e da espessura da camada intermediária de titânio. Foi utilizado o processo de evaporação por feixe de elétrons em atmosfera reativa de nitrogênio para produção dos revestimentos. As camadas foram analisadas através de técnicas de microdureza, difração de raios-X, microscopia eletrônica de varredura (MEV) e GDS. A avaliação da adesão foi realizada por técnicas de indentação e de resistência ao risco. Os resultados obtidos apresentaram significativas mudanças no comportamento dos filmes frente as diferentes condições de deposição.

A performance em serviço de peças revestidas está diretamente ligada às propriedades do material do filme, do substrato e à adesão entre as duas partes. No caso da deposição do TiN em aços, onde normalmente o maior interesse é a melhoria das propriedades tribológicas, a adesão do filme é de extrema importância. Neste trabalho foram produzidos filmes de TiN em diferentes substratos (aços AISI 4140 e M2) com diferentes condições de tratamento térmico, visando avaliar o efeito da dureza e da composição química dos substratos. Também foram alteradas as condições de deposição, através do bias voltage e da espessura da camada intermediária de titânio. Foi utilizado o processo de evaporação por feixe de elétrons em atmosfera reativa de nitrogênio para produção dos revestimentos. As camadas foram analisadas através de técnicas de microdureza, difração de raios-X, microscopia eletrônica de varredura (MEV) e GDS. A avaliação da adesão foi realizada por técnicas de indentação e de resistência ao risco. Os resultados obtidos apresentaram significativas mudanças no comportamento dos filmes frente as diferentes condições de deposição.

Keywords

PVD, nitreto de titânio, adesão.

PVD, nitreto de titânio, adesão.