Title

Estudo Dosimétrico de Filmes de LiF:NaF

Estudo Dosimétrico de Filmes de LiF:NaF

Authorship

MAURÍCIO, CLÁUDIA LÚCIA DE PINHO; MAURÍCIO, MARCOS HENRIQUE DE PINHO; NUNES, RAUL ALMEIDA

MAURÍCIO, CLÁUDIA LÚCIA DE PINHO

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MAURÍCIO, MARCOS HENRIQUE DE PINHO

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NUNES, RAUL ALMEIDA

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DOI

10.5151/2594-5327-C00916

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Abstract

Filmes multicamadas de LiF, NaF e LiF:NaF foram crescidos pelo método de evaporação por feixe de elétrons. Todos os filmes foram depositados com uma taxa de cerca de 1 nm/s em substratos de alumínio, aço inoxidável e vidro. Os substratos foram mantidos a temperaturas entre 30 e 350 °C. Posteriormente, os filmes foram tratados termicamente e irradiados em um irradiador de ⁶⁰Co, com doses entre 0,05 e 100 Gy para testar a possibilidade de seu uso para dosimetria. Suas características estruturais e morfológicas foram estudadas por difração de raios X e microscopia eletrônica de varredura. As propriedades dosimétricas destes filmes foram medidas por suas curvas de emissão termoluminescente (TL). A adição de camadas de NaF aos filmes de LiF modifica as tensões internas no filme, modificando sua resposta TL, mas não a sua estrutura de picos de emissão. Curvas dosimétricas foram construídas para dois destes picos. Ainda não foi possível estabelecer uma correlação entre a curva de emissão TL dos filmes de LiF:NaF e as contribuições devidas às camadas de LiF e NaF, individualmente.

Filmes multicamadas de LiF, NaF e LiF:NaF foram crescidos pelo método de evaporação por feixe de elétrons. Todos os filmes foram depositados com uma taxa de cerca de 1 nm/s em substratos de alumínio, aço inoxidável e vidro. Os substratos foram mantidos a temperaturas entre 30 e 350 °C. Posteriormente, os filmes foram tratados termicamente e irradiados em um irradiador de ⁶⁰Co, com doses entre 0,05 e 100 Gy para testar a possibilidade de seu uso para dosimetria. Suas características estruturais e morfológicas foram estudadas por difração de raios X e microscopia eletrônica de varredura. As propriedades dosimétricas destes filmes foram medidas por suas curvas de emissão termoluminescente (TL). A adição de camadas de NaF aos filmes de LiF modifica as tensões internas no filme, modificando sua resposta TL, mas não a sua estrutura de picos de emissão. Curvas dosimétricas foram construídas para dois destes picos. Ainda não foi possível estabelecer uma correlação entre a curva de emissão TL dos filmes de LiF:NaF e as contribuições devidas às camadas de LiF e NaF, individualmente.

Keywords

LiF:NaF, filme, termoluminescência

LiF:NaF, filme, termoluminescência