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Proceedings of ABM Annual Congress


ISSN 2594-5327

55th Congresso anual Vol. 55 , num. 1 (2000)


Title

Medida da Foto-Luminescência em Filmes Finos de Al₂O₃ Dopados com Ce

Medida da Foto-Luminescência em Filmes Finos de Al₂O₃ Dopados com Ce

Authorship

DOI

10.5151/2594-5327-C00921

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Abstract

Filmes finos de alumina (Al₂O₃) dopados com Ce, em até 10% at. na solução precursora foram depositados por spray-pirólise, nas temperaturas de substrato de 280 e 400 °C, sobre lâminas de vidro. A foto-luminescência destes filmes foi avaliada segundo a concentração de dopante adicionada, bem como foi analisada a influência da temperatura de deposição na intensidade de luminescência. Com a dopagem com Ce foi observada uma mudança no espectro de luminescência com a formação de espectros sintonizados. Os espectros para estes filmes apresentaram-se assimétricos, sendo possível descrever bem os espectros obtidos através do ajuste de duas gaussianas, correspondentes a dois picos cujos comprimentos de onda central variaram em torno de 360 e 380 nm.

 

Filmes finos de alumina (Al₂O₃) dopados com Ce, em até 10% at. na solução precursora foram depositados por spray-pirólise, nas temperaturas de substrato de 280 e 400 °C, sobre lâminas de vidro. A foto-luminescência destes filmes foi avaliada segundo a concentração de dopante adicionada, bem como foi analisada a influência da temperatura de deposição na intensidade de luminescência. Com a dopagem com Ce foi observada uma mudança no espectro de luminescência com a formação de espectros sintonizados. Os espectros para estes filmes apresentaram-se assimétricos, sendo possível descrever bem os espectros obtidos através do ajuste de duas gaussianas, correspondentes a dois picos cujos comprimentos de onda central variaram em torno de 360 e 380 nm.

Keywords

alumina, terras-raras, spray-pirólise

alumina, terras-raras, spray-pirólise

How to cite

Viana, Cátia Cristina Brito; Jr., Herval Ramos Paes. Medida da Foto-Luminescência em Filmes Finos de Al₂O₃ Dopados com Ce, p. 1777-1780. In: 55th Congresso anual, Rio de Janeiro, Brasil, 2000.
ISSN: 2594-5327, DOI 10.5151/2594-5327-C00921