Title

O EFEITO DA DENSIDADE DE CORRENTE NO RECOBRIMENTO DE TITÂNIO COM HIDROXIAPATITA POR ELETRONUCLEAÇÃO/CRESCIMENTO EM MEIO AQUOSO A 25 °C

O EFEITO DA DENSIDADE DE CORRENTE NO RECOBRIMENTO DE TITÂNIO COM HIDROXIAPATITA POR ELETRONUCLEAÇÃO/CRESCIMENTO EM MEIO AQUOSO A 25 °C

Authorship

PINTO, VINÍCIUS BEMFICA BARREIRA; OGASAWARA, TSUNEHARU; ANDRADE, MÔNICA CALIXTO DE; BASTOS, IVAN NAPOLEÃO

PINTO, VINÍCIUS BEMFICA BARREIRA

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OGASAWARA, TSUNEHARU

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ANDRADE, MÔNICA CALIXTO DE

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BASTOS, IVAN NAPOLEÃO

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DOI

10.5151/2594-5327-2633

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Abstract

O presente trabalho teve como objetivo revestir completamente implantes de titânio com hidroxiapatita quimicamente aderida, num tempo de processamento comercialmente satisfatório, usando eletronucleação/crescimento em meio aquoso. Placas de titânio de aproximadamente 10 mm × 10 mm × 1 mm foram inicialmente lixadas e limpas, seguindo-se ataque com solução 1 molar de hidróxido de sódio a 130 °C em autoclave durante 1 hora, seguido por tratamento térmico ao ar a 600 °C durante 1 hora. Na etapa seguinte, estas placas funcionaram como catodo (tendo tela de platina como anodo) numa célula de eletronucleação e crescimento catódico de hidroxiapatita sobre titânio a partir de solução aquosa neutra e diluída de fosfato de cálcio. O produto final da eletrodeposição foi caracterizado quanto à extensão de cobertura superficial, usando microscopia. Foi examinada a relação entre cobertura superficial em função tempo de eletronucleação/crescimento de hidroxiapatita em titânio para cada uma das 4 densidades de corrente empregadas (0,2 mA/cm², 2 mA/cm², 6 mA/cm² e 12 mA/cm²). Mesmo com a mais alta densidade de corrente não foi possível obter 100% de cobertura superficial do titânio com hidroxiapatita em 3 horas de aplicação da corrente. Isto recomenda o emprego de uma temperatura de eletronucleação maior (80 °C).

O presente trabalho teve como objetivo revestir completamente implantes de titânio com hidroxiapatita quimicamente aderida, num tempo de processamento comercialmente satisfatório, usando eletronucleação/crescimento em meio aquoso. Placas de titânio de aproximadamente 10 mm × 10 mm × 1 mm foram inicialmente lixadas e limpas, seguindo-se ataque com solução 1 molar de hidróxido de sódio a 130 °C em autoclave durante 1 hora, seguido por tratamento térmico ao ar a 600 °C durante 1 hora. Na etapa seguinte, estas placas funcionaram como catodo (tendo tela de platina como anodo) numa célula de eletronucleação e crescimento catódico de hidroxiapatita sobre titânio a partir de solução aquosa neutra e diluída de fosfato de cálcio. O produto final da eletrodeposição foi caracterizado quanto à extensão de cobertura superficial, usando microscopia. Foi examinada a relação entre cobertura superficial em função tempo de eletronucleação/crescimento de hidroxiapatita em titânio para cada uma das 4 densidades de corrente empregadas (0,2 mA/cm², 2 mA/cm², 6 mA/cm² e 12 mA/cm²). Mesmo com a mais alta densidade de corrente não foi possível obter 100% de cobertura superficial do titânio com hidroxiapatita em 3 horas de aplicação da corrente. Isto recomenda o emprego de uma temperatura de eletronucleação maior (80 °C).

Keywords

implantes de titânio, hidroxiapatita, eletronucleação de hidroxiapatita, revestimento de titânio, crescimento catódico

implantes de titânio, hidroxiapatita, eletronucleação de hidroxiapatita, revestimento de titânio, crescimento catódico