Title

O efeito da temperatura na deposição de filmes finos de SnO2 por sputtering em diferentes substratos

The effect of temperature on sputtering SNO2 thin films on different substrates

Authorship

BORGES, PABLO DAMASCENO; MASCARENHAS, BRENO RIBEIRO; PINTO, ADRIANO REIS PORTES; FERREIRA, GUSTAVO FAGUNDES; MATOS, DIEGO CALADO DE; ZARDIN, YURI YOKOYAMA; MEIRA, JOUBERT RAFAEL

BORGES, PABLO DAMASCENO

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MATOS, DIEGO CALADO DE

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ZARDIN, YURI YOKOYAMA

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DOI

10.5151/2594-4711-44158

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Abstract

Utilizando a técnica de sputtering, filmes finos de SnO2 foram depositados em três substratos distintos: vidro, silício e alumina. Os filmes foram crescidos em três condições de temperatura, sendo, temperatura ambiente, 100°C e 200°C. Os filmes foram caracterizados em termos de suas espessuras, rugosidade, superfície e composição, utilizando as técnicas de perfilometria e microscópia eletrônica de varredura. Os resultados obtidos mostraram que para os substratos de vidro e alumina a rugosidade aumenta com a temperatura. Já para o substrato de silício, o resultado não mostrou um comportamento claro. Os efeitos da temperatura de deposição e da natureza do substrato foram analisados para cada caso e os resultados comparados com a literatura existente no contexto de fabricação de dispositivos eletrônicos, como sensores e células solares.

Using sputtering techniques three substrates were used for the deposition of SnO₂ thin films: glass, silicon, and alumina. Deposition was performed on these films at different temperatures: ambient temperature, 100°C, 200°C and 400°C. Afterward, the films were analyzed using a profilometer and a scanning electron microscope to observe the effects that this temperature variation had on the thin films deposited by sputtering.

Keywords

Filmes finos de SnO2, Efeito da temperatura, Sputtering

Thin films of SnO₂, Effect of temperature, Sputtering