ISSN 2594-5327
58º Congresso anual — Vol. 58 , num. 1 (2003)
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Resumo
O objetivo do presente trabalho é mostrar o uso de diagramas de potenciais termodinâmicos para avaliar as condições de deposição de filmes de Telureto de Cádmio a partir de duas fontes de materiais, Cd e Te. Em especial, o método proposto permite avaliar a influência de contaminantes gasosos, tais como, por exemplo, oxigênio e vapor de água, sobre as fases condensadas. O método pode ser aplicado para a deposição de outros compostos estequiométricos que também sejam mais estáveis que os elementos que os compõem.
O objetivo do presente trabalho é mostrar o uso de diagramas de potenciais termodinâmicos para avaliar as condições de deposição de filmes de Telureto de Cádmio a partir de duas fontes de materiais, Cd e Te. Em especial, o método proposto permite avaliar a influência de contaminantes gasosos, tais como, por exemplo, oxigênio e vapor de água, sobre as fases condensadas. O método pode ser aplicado para a deposição de outros compostos estequiométricos que também sejam mais estáveis que os elementos que os compõem.
Palavras-chave
potenciais termodinâmicos, deposição de filmes finos, telureto de cádmio
potenciais termodinâmicos, deposição de filmes finos, telureto de cádmio
Como citar
Ribeiro, Mônica Cristina Riccio; Cruz, Leila Rosa de Oliveira; Avillez, Roberto Ribeiro de.
Avaliação termodinâmica das condições de deposição de filmes de CdTe através da técnica de evaporação em espaço fechado,
p. 2859-2867.
In: 58º Congresso anual,
Rio de Janeiro, Brasil,
2003.
ISSN: 2594-5327, DOI 10.5151/2594-5327-3016
