ISSN 2594-4711
24º Enemet - Encontro Nacional de Estudantes de Engenharia Metalúrgica, de Materiais e de Minas — Vol. 24 , num. 24 (2026)
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Resumo
Utilizando a técnica de sputtering, filmes finos de SnO2 foram depositados em três substratos distintos: vidro, silício e alumina. Os filmes foram crescidos em três condições de temperatura, sendo, temperatura ambiente, 100°C e 200°C. Os filmes foram caracterizados em termos de suas espessuras, rugosidade, superfície e composição, utilizando as técnicas de perfilometria e microscópia eletrônica de varredura. Os resultados obtidos mostraram que para os substratos de vidro e alumina a rugosidade aumenta com a temperatura. Já para o substrato de silício, o resultado não mostrou um comportamento claro. Os efeitos da temperatura de deposição e da natureza do substrato foram analisados para cada caso e os resultados comparados com a literatura existente no contexto de fabricação de dispositivos eletrônicos, como sensores e células solares.
Using sputtering techniques three substrates were used for the deposition of SnO₂ thin films: glass, silicon, and alumina. Deposition was performed on these films at different temperatures: ambient temperature, 100°C, 200°C and 400°C. Afterward, the films were analyzed using a profilometer and a scanning electron microscope to observe the effects that this temperature variation had on the thin films deposited by sputtering.
Palavras-chave
Filmes finos de SnO2, Efeito da temperatura, Sputtering
Thin films of SnO₂, Effect of temperature, Sputtering
Como citar
Borges, Pablo Damasceno; Mascarenhas, Breno Ribeiro; Pinto, Adriano Reis Portes; Ferreira, Gustavo Fagundes; Matos, Diego Calado de; Zardin, Yuri Yokoyama; Meira, Joubert Rafael.
O efeito da temperatura na deposição de filmes finos de SnO2 por sputtering em diferentes substratos,
p. 1431-1437.
In: 24º Enemet - Encontro Nacional de Estudantes de Engenharia Metalúrgica, de Materiais e de Minas,
São Paulo, SP - Brasil,
2026.
ISSN: 2594-4711, DOI 10.5151/2594-4711-44158
